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    等離子增強化學氣相沉積PECVD

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    設備名稱 :等離子增強化學氣相沉積PECVD 
    品牌型號: SAMCO PD-220NL 

    設備用途
    主要用于二氧化硅和氮化硅介質膜沉積

    主要技術指標:
    氣體:SIH4 CF4 PN2 NH3 N20 O2
    沉積速率:> 30nm/min
    均勻性:片內小于±5%,片間小于±5%,批次小于±5%

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