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    電子束曝光機 晶圓級制造

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    設備名稱:電子束曝光機  晶圓級制造

    設備用途:電子束曝光是利用加速的聚焦電子束在抗蝕劑上曝光,顯影后便可在抗蝕劑上得到相對應的微納結構;用于各種高精度圖形結構的制備。

    主要技術指標:
    加速電壓:50kV
    電子束電流:10pA~100nA
    可加工尺寸:2inch、3inch、4inch、5inch和≥1cm不規則片
    分辨率:10nm
    套刻精度:50nm

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